据电子材料市场研究与咨询服务公司TECHCET预测，2021年半导体制造所需的光刻胶市场规模将同比增长11%，达到19亿美元。从抗蚀剂类型来看，2020年和2021年的光刻胶市场，用于KrF和浸入式ArF的光刻胶市场较高。对于EUV，应用范围正在从逻辑芯片扩展到DRAM。2021年的EUV光刻胶市场将超过2000万美元，并且此后还将继续增长，预计到2025年将超过2亿美元。
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据科技媒体3月12日 报道，韩国Dongjin Semichem和ENF Technology两家公司均已向客户三星电子和SK海力士提出关于稀释剂的涨价要求，据悉，两家韩国公司计划从四月份起将稀释剂的价格提高50%。
稀释剂主要用于去除晶圆和显示器制造过程中喷涂的光阻剂残余物。制作过程是先将环氧丙烷（PO）加工成丙二醇单甲醚（PGME）和丙二醇甲基醚乙酸酯（PGMEA），之后再制为稀释剂。
从2020年初到年底，环氧丙烷的价格上涨了90%。同期丙二醇单甲醚和丙二醇甲基醚乙酸酯的价格也上涨了80%。除此之外，受美国得州突发暴风雪影响，陶氏化学（Dow Chemical）关闭了位于当地的环氧丙烷生产工厂，从而导致该种材料价格进一步上涨。
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上海新阳（300236）今日公告，由上海芯刻微材料技术有限责任公司委托盛吉盛（宁波）半导体材料有限公司代理投标，成功中标，购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。
3月11日，芯刻微公司向盛吉盛支付10%首期货款购入该光刻机，剩余90%六个月内付清。后续公司将启动设备的运输及相关安装调试等工作。
上海新阳表示，集成电路制造用ArF湿法光刻胶产品技术要求高、投资需求大，公司为加速集成电路制造用高端光刻胶全品类的国产化进程，减少上市公司业绩压力，通过参股子公司芯刻微进行Ar湿法光刻胶的研发，并与协议各方承诺未来通过向上市公司进行股权转让或技术转让等方式避免可能的同业竞争。
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