“ArF光刻胶产品开发和产业化”是宁波南大光电承接国家“02专项”的一个重点攻关项目。本次产品的认证通过，标志着“ArF光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破，成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶。据亚汇网了解，光刻胶是半导体芯片制造过程中的核心材料之一，经过紫外光、电子束等照射，光刻胶得到曝光，化学性质发生改变，经过显影液的洗涤，图案会留在衬底上。光刻胶分为KrF（248nm）、ArF（193nm）和EUV（13.5nm）几种，括号中的数值为曝光光源的波长。

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